等離子凈化除臭設(shè)備
等離子凈化設(shè)備主要用以除臭工藝系統(tǒng)之中,內(nèi)含等離子反應區(qū)富含如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等物質(zhì),廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應,使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。
產(chǎn)品原理
等離子凈化設(shè)備利用等離子體以每秒800萬次至5000萬次的速度反復轟擊異味氣體的分子如苯、甲苯、二甲苯等有機廢氣分子,去激活、電離、裂解分子中的各類成份,轉(zhuǎn)化成的各類活性粒子,與空氣中的O2結(jié)合生成H2O、CO2等無害物質(zhì),達到凈化廢氣的目的。